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H9/H9M 白光干涉表面輪廓儀

簡要描述:Heliotis H9/H9M 均為工業(yè)級白光干涉(WLI)3D 表面輪廓儀,基于低相干寬帶光在零光程差附近形成高對比度條紋,通過 Z 軸掃描與像素級相干峰 / 相位解包裹重構 3D 形貌,實現(xiàn)非接觸、納米級精度測量。H9/H9M 白光干涉表面輪廓儀

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2025-12-25
  • 訪  問  量:106
詳細介紹
品牌昊量光電產(chǎn)地類別進口
應用領域綜合

H9/H9M 白光干涉表面輪廓儀



Heliotis H9/H9M 均為工業(yè)級白光干涉(WLI)3D 表面輪廓儀,基于低相干寬帶光在零光程差附近形成高對比度條紋,通過 Z 軸掃描與像素級相干峰 / 相位解包裹重構 3D 形貌,實現(xiàn)非接觸、納米級精度測量。H9/H9M 白光干涉表面輪廓儀

HeliInspect™ H9 結合了大型測量場和高高度分辨率。其堅固設計、長工作距離和靈活的軟件集成使其成為大型組件串聯(lián)測試的理想解決方案,涵蓋在線、在線和離線。

對于那些常規(guī)傳感器已無法滿足需求的應用場景,heliInspect™ H9 和 H9M 能憑借的亞微米級高度分辨率脫穎而出。這些屬于行業(yè)標準級別的白光干涉儀之所以,是因為它們采用了 Heliotis 的下一代 3D 像素傳感器 heliSens™ S4 和 S4M。


白光干涉儀H9/H9M應用場景:


  • 半導體:芯片鍵合、TSV、微凸點、再分布層(RDL)共面度、薄膜厚度。

  • MEMS:微結構、諧振器、封裝共面度、高深寬比結構形貌。

  • 光學元件:鏡片、棱鏡、光柵、晶圓表面面形與粗糙度。

  • 精密制造:刀具、模具、涂層厚度與均勻性、微流控芯片

  • 醫(yī)療:植入物表面、生物組織形貌、微流控芯片結構。


白光干涉儀H9/H9M產(chǎn)品特點:


測量能力得到提升:

  •  具有真正亞微米級精度的高度測量

  • 歷史性的測量速度

  • 在給定視場內 x、y 方向的分辨率更高

  • 更高的場景內動態(tài)范圍

  • 大量的光學放大倍數(shù)

集成操作就像使用二維攝像機一樣簡單:

  • 標準 GenCAM 接口

  • 攝像機內標準功能服務


白光干涉儀H9/H9M技術特性與優(yōu)勢:


  • 非接觸無損:適配軟 / 脆 / 高反 / 透明 / 低反樣品,無損傷風險。

  • 高精度與高速兼顧:H9≈0.3 s,相位模式亞納米精度,滿足研發(fā)與產(chǎn)線需求。

  • 大行程與高動態(tài):40 mm 行程覆蓋大臺階;高動態(tài)范圍適配高低反射并存表面。

  • 抗振魯棒:工業(yè)級設計,適合實驗室與產(chǎn)線在線檢測

  • 自動化與易用性:自動對焦 / 尋紋 / 拼接,多區(qū)域批量測量,降低操作門檻。

  • 軟件分析:自動計算高度、粗糙度、體積、角度等參數(shù),支持報表導出(Word/Excel/PDF)。


型號定位與核心差異:


  • H9:標準工業(yè)級,H8的性能升級,相位模式≤0.05 nm,單幀≈0.3 s,抗振更強,適合超精密研發(fā)與嚴苛產(chǎn)線。

  • H9M:H9 的 “高動態(tài) / 多波長" 版,低反 / 透明樣品測量更穩(wěn),速度與精度兼顧。


多種視野范圍,兩種工作間距:


靈活的鏡頭選擇功能使得能夠根據(jù)不同的部件尺寸和需求進行調整。




0.5×0.8×1×1.5×2×3×
Field of view [mm × mm]24.6 × 26.115.4 × 16.312.3 × 13.18.2 × 8.76.1 × 6.50.26 × 0.2
Optical resolution [µm] – H94830241612
8
Optical resolution [µm] – H9M2415121864(*)
Working distance [mm] – Standard51
5151514949
Working distance [mm] – Long113113113
110
Numerical aperture – Standard0.0330.0530.0670.100.130.15
Numerical aperture – Long0.0330.0530.067
0.11



白光干涉儀H9/H9M產(chǎn)品參數(shù):





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